離子鍍膜機，是一種需要在較高真空度下進行的鍍膜的儀器，離子鍍膜技術（離子鍍）是美國Sandia公司的D.M.Mattox于1963年首先提出的，1972年，Bunshah提出了活性反應蒸鍍法。離子鍍膜技術現已在航空業、鐘表行業、裝飾、沖孔沖模、高速鋼刀具上運用。
    多弧離子鍍是種比較好的鍍膜技術，在真空蒸發和濺射鍍膜的基礎上發展起來的，相應的儀器就是馳誠CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機。它的優點可概括成以下幾點：
    1、金屬離化率高；
    2、一弧多用；
    3、沉積速度快，繞鍍性好；
    4、膜的附著力高。
    除此之外，可任意設置鍍膜室適當的位置，也可采用多個電弧蒸發源；簡化基片轉動機構等。

 離子鍍膜機的工作原理

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機

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